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吸附反应外延系统(ARE)

发布时间:2025-08-05

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仪器名称:         吸附反应外延系统(ARE)             仪器型号:ARE-200


产地:                        浙江嘉兴                                生产厂家:嘉兴科民电子


购买日期:                2023/12/1                              分类标签:材料制备


联系人:                       于慧慧                                 联系电话:010-62334725


放置地点:              鼎新楼A座521


主要规格及技术指标:

1. 整体结构:包含吸附反应外延腔室、前驱体源系统、真空系统、控制系统、预真空腔室各 1 套。

2. 吸附反应外延腔室:适用于4英寸基片,采用内外双腔结构(标配两套内腔);外腔有快速高温及整体辐射加热装置,可加热内腔及样品台;内腔为可拆卸微型反应腔≤4英寸,含独立加热及背冷系统;反应温度≤500℃,快速外延温度≤900℃,真空环境下 300℃至 600℃升温时间<1min。

3. 前驱体源系统:2 路可加热 MO 前驱体直通液态源、1 路非金属直通源、2 路鼓泡前驱体源(均配置响应时间<10ms 的隔膜阀等,源瓶及管路加热 RT-200℃,控制精度 ±1℃);内置氧气源臭氧发生器,预留 1 路特气接口;两路载气由原装进口流量计控制,管路采用 316L+VCR 密封,具备在线清洗功能。

4. 真空系统:整机极限真空<5E-6Torr,真空漏率<5E-7 Pa・L/S;配置工艺干泵(抽速≥100m³/h)+ 本底分子泵;真空泵前级设热阱(加热最高 500℃,控制精度 ±1℃)。

主要功能及特色:

主要用于在各种基底表面生长单晶材料,其工艺过程为真空内腔内全自动运行的原位单原子层反应-原位快速升温结晶-原位快速降温并恢复单原子层反应循环环境。