仪器编号：登录后查看
所属平台： 其他
仪器状态：
所属单位： 浙江大学 > 光电科学与工程学院 > 光电磁实验室
仪器生产商： Kurt J. Lesker
购置日期： 2011-12-23
规格型号： pvd 75,KJLC PVD 75
放置地址：超净室
仪器管理员：陈辉
联系电话：登录后查看
| 工作时间： | 09:00-12:00;14:00-18:00 |
|---|---|
| 最小可预约时间段： | 0.5 小时 |
| 最大可预约时间段： | 168 小时 |
| 日历最小单位： | 0.5 小时 |
| 最近提前预约时间： | 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时 |
| 最远提前预约时间： | 初级: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点 |
| 最大有效预约次数： | 5 次/天 |
| 无代价撤销预约时间： | 1440 分钟 |
| 仪器介绍： | 在真空环境下，利用物理沉淀的方式（包括磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、有机蒸发等，本台设备主要选用磁控溅射的方式）在材料基片表面匀镀一层微纳尺度的金属或半导体膜。 |
| 主要参数： | 最大膜厚：300nm最长镀膜时间：1小时24小时最大靶材利用率：30%靶数量：3个电源：2个基片数量：1*2“ |
| 序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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| 序号 | 标题 | 添加时间 |
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| 暂无数据 | ||
